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第272章 威廉姆斯团队的技术理想（第1页）

星城半导体产业园，中微公司总部大楼。

正值凌晨，一场特殊的会议正在二十一楼的会议室召开。

会议室的气氛有些紧张，威廉姆斯团队和中微的核心研发人员第一次正式碰面。

李一凡和尹志尧坐在主席台上，看着下面泾渭分明的两个团队。

一边以威廉姆斯为首的十一人国际团队，另一边是中微刻蚀机研发团队的骨干成员。

“今天这个会议很重要。”

李一凡开门见山，“从今天开始，中微将正式组建光刻机事业部，与现有的刻蚀机事业部一起发展。

威廉姆斯博士担任光刻机事业部总经理，直接向董事会报告。”

“但我要强调的是，两个事业部并不是割裂的。”

他环视全场，“光刻机和刻蚀机虽然是不同的设备，但在核心技术上是有共通之处的。

我希望两个团队能够紧密合作，实现技术共享、优势互补。”

威廉姆斯站起身来，用流利的中文说道：“非常感谢中微给我们这个机会。

在加入之前，我们就深入研究中微的技术积累。

必须承认，你们在精密机械控制、稀疏技术等领域的创新，给了我们很大的启发。”

他打开笔记本电脑，调出了一份技术方案：“这是我们的初步规划。

光刻机的核心在于光学系统、机械系统和控制系统的完美配合。

中微在后两个领域已经有很深的积累，这让我们在光学系统的创新上多了信心。”

对面的梁宗杰，中微刻蚀机研发的总工程师皱了皱眉：“威廉姆斯博士，我很认可您的观点。

但有一个现实问题：我们的精密控制技术是针对刻蚀工艺开发的，用在光刻机上是否需要重新设计？”

“好问题。”

威廉姆斯眼睛一亮，“这正是我们要重点合作的地方。

刻蚀机和光刻机在纳米级精密控制上的需求是相通的。

比如梯度的稳定性控制、机械臂的精准定位等，这些技术完全可以共享。”

他调出了另一张图表：“我们的设想是这样的：在现有的精密控制平台基础上，开发一套更通用的光刻系统架构。

这套架构不仅能满足刻机的需求，还能为光刻机的开发提供支持。”

杨思涵认真看着图表，很快点头：“这个思路。

不过实现起来难度不小。

光刻机对精度的要求比刻蚀机还要高一个数量级。”

“正因如此，我们才选择了一条全新的技术路线。”

威廉姆斯说，“传统光刻机主要依赖波长的种群来精度提升，从深线到极线。

但这条路越走越难，成本也越来越高。”

“我们的光学方案是，通过创新的系统设计和静态曝光技术，在保持现有光源的基础上实现更大的优势。

这样不仅能降低技术开销，还能大幅降低成本。”

听到这里，杨思涵眼前一亮。

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