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第一百零三章 二氧化铈（第1页）

第一百零三章

顾律的眉头轻轻皱起。

据他所知，这种米国新型的BuehlerPhoenixBets型抛光机，抛光精度，应该能达到0.1纳米左右。

而据黄师傅所说，他们通过这台设备，抛光后得到的硅晶片，精度最高的一次才为1.06纳米。

两者差了十倍。

这个数据不对，很不对！

一定是哪个环节出了问题。

硅晶片，准确的来说是属于材料学领域。

但各学科之间是相互关联的。

顾律在钻研物理学中的半导体物理的时候，不仅研究了硅晶片中原子状态和电子状态以及各器件内部电子过程，还对硅晶片的整个制作流程，查阅了相当多的专业书籍和文献。

否则，他也不会在郭院士面前，大包大揽的承接下此事。

只不过，面前的情况，确实让顾律有些想不通。

要么，就是设备本身有问题，海跃公司从米国进口来的这批设备是假货！

但这几率不大。

要么，就是在操作过程中，在哪个环节出了纰漏。

顾律曾在一本书中，看到过BuehlerPhoenixBets型抛光机的结构图纸。

顾律把眼前的设备和记忆中图纸上所描述的结构对比了一下，发现完全是吻合的。

那应该就不是买到假货了。

顾律起身，拍拍手上的尘土，对黄师傅笑着开口，“黄师傅，实际上机操作一下吧，我看一下效果。”

黄师傅点点头，几分钟后拿着一块未经过抛光处理硅晶片回来。

跟着黄师傅回来的，还有几位穿着工作服的年轻员工。

好奇的目光，打量着张经理身旁身姿挺拔的顾律。

“黄师傅，开始吧。”

在几人的注视下，顾律泰然自若，目光望向黄师傅。

抛光机的操作很简单。

插上电源，将硅晶片摆放在相应的夹具上，最后加入抛光液。

按下红色按钮，启动机器。

抛光机开始工作起来。

顾律就围着这台抛光机，全方位的观察。

周围的众人全部屏住呼吸，静静的等待着。

于是乎，这片区域内，除了机器转动的声音外，只剩下顾律在地面上踱步的声音。

时间在一点点流逝。

这种新型的抛光机，抛光时间是三十分钟。

“不应该啊！”

顾律摸着下巴，喃喃一声。

眼前发生的事情，确实触及到他的知识盲区了。

黄师傅放置的硅晶片位置，虽然在一定程度上，导致在抛光过程中切削深度的增加，但也不至于，精度会比预计的数值增加十倍。

机器的工作过程，顾律全程看下来了，也并没有发现什么异常。

按理说，十倍的精度差，不可能出现才对。

难道今天要翻车了？

在抛光时间快要结束的时候，顾律目光瞥了一眼黄师傅背后，接着视线紧紧锁住那个蓝色的塑料液体瓶。

对了，抛光液！

顾律脑中灵光一闪，瞬间明白问题的关键所在。

在抛光过程中，除了抛光机以及被抛光的物件，用来进行辅助抛光作用的抛光液，也能极大的影响被抛光物件的精度。

往往，不同型号的抛光机，不同被抛光的物件，最适宜使用的抛光液是不同的。

“你们用的是哪种抛光液？”

顾律沉声问道。

“呃……”

黄师傅愣了一下，随口回答，“我们现在使用的纳米三氧化二铝粉末抛光液。”

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